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人工晶体
氧化锆(ZrO2)

氧化锆(ZrO2)单晶基片是较早期被开发应用的高温超导基片之一。由于ZrO2单晶需掺入钇(Y)以稳定其结构, 一般实际使用的是YSZ单晶――加入钇稳定剂的氧化锆单晶。它机械、化学稳定性好,价格较低,特别适于用在试验性薄膜制备工作中。氧化锆也是制作双晶基片(用于高温超导结构技术)的良好材料。

主要技术参数

晶系

立方晶系

晶格常数(Å

a=5.147

熔点(℃)

2700

密度(g/cm3

6.0

莫氏硬度

8-8.5

热膨胀系数(/℃)

10.3x10-6

介电常数

ε=27

特点

价格较低

生长方法

弧熔法

 

基片规格

尺寸:

10x310x510x1015x15,,20x1520x20

Ф15,Ф25

厚度:

0.5mm1.0mm

尺寸公差:

<±0.1mm

厚度公差:

<±0.015mm(特殊要求可达到<±0.005mm)

表面抛光:

单面或双面

晶面定向精度:

±0.5°

边缘定向精度:

2°(特殊要求可达1°以内)

取向:

100>,<110>,<111>等

斜切晶片:

可按特定需求,加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜(倾斜角1°~ 45°)的晶片

Ra:

5µm×5µm

 

联系方式:

1589421143902505.png




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